[ «РАЗРАБОТКА ПРОМЫШЛЕННОЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ СХЕМЫ СИНТЕЗА ТРИХЛОРСИЛАНА ...»
26. Проспект фирмы “Centrotherm”. Германия, 2007.
27. W. Dietze, W. Keller, A. Muhlbauer: Float -zone grown silicon, in: Silicon / Ed.J.Grabmaier. - Springer Verlag. Berlin. Heidelberg. New York, 1981. - 286 p.
28. K. Hesse: Silizium fur die Photovoltaik. Erneubare Energien. 2006. - № 7. s.
- 67-69.
29. A. Budzinski: Photovoltaik wird kostengunstiger. Chemische Rundschau.
2007. - № 7.- s. 20-22.
30. Фалькевич Э.С., Пульнер Э.О., Червонный И.Ф. и др. Технология полупроводникового кремния. - М.: Металлургия. 1992. - 407 с.
31. Ulmann’s Enzyklopadie der tecnnlcnen Chemie. 8d.21. Verlag Chemie.
Weinheim. 1982. - s. 417-543.
31. H.S. Setty, C.L. Yaws, B.R. Martir. Method of operating a quarz fluidized bed reactor for the production of silicon. Pat.USA. № 3963 838. заявл. 24.05. опубл.15.06.1976.
32. Кодзима Тосинори // Кэмикару эндзиниярнигу: Chem. Jng. 1988. № 10.
с. 819-825; Пат.Японии № 61-216109. заявл.12.09.86 опубл.29.03.88.
33. Engpass Silizium? Neues Verfahren zur Siliziumproduktion, http://www.sfv.de/lokal/mails/sj/silizium.html, ausgedruckt 08.05.2005.
34. C. Hammerschmidt: Wacker baut granulares Polysiliciumlinie.
http://www.eetimes.eu/germany/201200418, 23.07.2007.
35. V.V. Zadde, A.B. Pinov, D.S. Sterbkov et.al. New method of solar grade silicon production: l2th Workshop on Crystalline Silicon.
36. W.C. Brenemann, E.G. Farrier, J. Rexer and H. Morihara. Union Carbide.
USA. Final report.Dep. of Energy. DOE/JPL. Nr.954334. 1979.
37. W.C. Brenemann, E.G. Farier, J.Y.P. Mui, J. Rexer. Union Carbide. USA: 6th Quartely Progress report. ERDA/JPL 954334-77/2. 1977.
38. Wen Ching Yang, Yang Yang: Handbook of fluidization and fluid-particle systems. Verlag Maccel Dekker Inc. 2003. p. 437.
39. G. Parkinson. Polysilicon Shines brightly. Chem.Engineering Progress. August 2008. p. 8-11.
40. REC-ASA- REC weiteren Anstieg der Production von Polysilicium in bestehenden Anlagen, http://www.recgroup.com/default.asp%3F, 20.09.2006.
http://www.presseecho.de/finanzen/NA87331252844.htm 64. Solar.
42. H.S. Klockner: Hochreine Monosilan fur die Elektronikindustrie:Chemlng.Techn. 1988. V. 60. № 11. s. 815-822.
43. Neues Produktionsverfahren fur Solarsilizium: http://www.process.vogel.de.
44. http://www.schmid-silicon.com.
45. C. Schmid, A. Petrik, J. Hahn, Method and system for the production of pure silicon:Pat.WO/2009/121558. MKI C0lb 33/029. C01b 33/107. заявл.31.03. опубл. 31.03.2009.
46. Linde and Schmid collaborate to boost silane production. http://www.ad-hocnews.de. 10.07.2008.
47. F.A. Kuznetsov. Semiconductor silicon for microelectronics, power electronics and photonics, Russian scenario: 20th CODATA conference. Beijaing.
China. 24th October 2006.www.codata.org.
48. Станишевский М. Мы будем делать кремний! The Chemical Journal. Sept.
- 2008.- c. 22-28.
49. Иванов В.М., Трубицин Ю.В. Современные тенденции развития промышленности поликристаллического полупроводникового кремния.
// Складні системи та технології. - 2009. - № 1(23). - С. 30-35.
50. Наумов А.В. Рынок солнечной энергетики: кризис и прогнозы.
// Материалы электронной техники. - 2009. - №2(46). - С. 4-12.
51. http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=223100597.
52. Marketbuzz™ 2008: Annual World Solar Photovoltaic Industry Report.
Solarbuzz. March 19. 2008. - http://www.solarbuzz.com/Marketbuzz2008intro.htm.
53. Global Solar Production “Surprisingly strong” says Prometheus Institute.
54. W.C. Brenemann, H.J. Dawson A Comparsion of the Trichlorsilane and Silane Routes in the Purification of Metalurgical Grade Silicon to Semiconductor Quality/ Silicon for the Chemical Industry IV. Geiranger. Norway.June 3-5. 1998.
/ Ed.: H.A Шye, H.M. Rong, L. Nygaard, G. Schlussler, J.Kr. Tuzet. Trondheim.
Norway. 1998. p.101-112.
55. Wacker Polysilicon. LBBW PV-Conference Zurich. 25.02.2009.
56. M.M. Dahl, A. Bellou, D.F. Bahr et.al. Microstructure and grain growth of polycrystalline Silicon grown in fluidized bed reactors. J. Cryst. Growth. 2009.
V. 311 issue 6. p.1496-1500.
57. J. Maurits. Safety Factors in Silane Production:Advanced Silicon Materials Washougal. WA. 1992.
58. E. Ngai, V. Fthenakis. Silane safety / Lessons Learned and Accident Prevention. Silane Safety JEEE Conference 2008. http://www.bnl.gov.
http://www.msnbc.msn.com/id/33607048/ns/local_news-spocane-wa.
60. J.C. Schumacher. Process for the production of high purity silicon. Pat.USA № 4084024. MKI C01b 33/02. заявл.29.11.76 опубл. 11.04.78.
проектирования – опыт ООО «Гипросинтез». Труды Международной конференции «Системы проектирования, технологической подготовки производства и управления этапами жизненного цикла промышленного продукта». - Москва, 2008. - С.7-10.
62. Гуревич Д.А. Проектные исследования химических производств. М.: Из-во «Химия», 1976. - 208 с.
63. http://www.technoil.ru/reviews/Amodeling-review.htm#A_00.
64. http://www.simsci-esscor.com.
65. http://www.chemstations.com.
66. http://www.bre.com.
67. http://www.winsim.com.
компьютерном моделировании химико-технологических систем. The Chemical Journal. - 2002. - p. 50-53.
69. http://www.aspentech.ru.
70. http://www.aveva.com.
71. Андриянов К.А., Голубцов С.А., Трофимова И.В. Взаимодействие кремния с хлористым водородом в «кипящем слое». // Журнал прикладной химии. - 1959. - Т. XXXII. - № 7. - С. 1620-1623.
практическое применение кремнеорганических соединений. Труды конференции. Из-во Академия наук СССР. Ленинград, 1961. - С. 83-84.
73. Joklik J. und Bazant V. Uber den Mechanismus der Direkten synthese von Trichlorsilan. Collection Czechoslov.Chem. Commun. - 1964. - V.29. - p 603-609.
74. Belij A.P, Gorbunov A.I., Flid R.M., Golubtsov S.A., Feldshtein N.S. and Trofimova I.V. Kinetic investigation of the reaction of silicon with hydrogen chloride. Collection Czechoslov.Chem. Commun. - 1967. - V.32. - p 1359-1367.
реакции кремния с хлористым водородом. // Журнал физической химии. Т. XLIII. - № 5. - С. 1144-1149.
Шарафанов В.Т. Кинетика реакции кремния с хлором. // Журнал физической химии. - 1969. - Т. XLIII. - № 3. - С 747-749.
Исследование реакции кремния с хлористым водородом методом раздельного калориметрирования. // Журнал физической химии. - 1969. Т. XLIII. - № 5. - С. 1112-1115.
Фельдштейн Н.С. Кинетика синтеза диметилдихлорсилана на кремнемедных контактных массах. // Журнал прикладной химии. -1970. - Т. XLIII. - № 9. С. 2317-2320.
Селективность и механизм прямого синтеза гидрохлорсиланов. // Журнал физической химии. – 1972. - Т. XLVI. - № 2. - С. 340-343.
80. Горбунов А.И., Щеголев А.В., Белый А.П., Голубцов С.А. К вопросу о роли меди в реакциях прямого синтеза гидрид- и органохлорсиланов.
// Журнал физической химии. - 1972. - Т. XLVI. - С. 631-633.
81. Горбунов А.И., Белый А.П., Филиппов Г.Г. Реакции кремния и германия с галогенами, гидрид и органогалогенами. // Журнал успехи химии. - 1974. Т.43. - № 4. - С. 683-706.
82. Буровой И.А., Бессарабов И.Н., Пульнер Л.О. Исследование процесса синтеза трихлорсилана в кипящем слое // Цв.металлы.- 1975.- № 9. - C. 51-53.
83. Иванов Л.С., Нечаев В.В., Берденникова А.Е. Термодинамический анализ процессов получения трихлорсилана. // Цв.металлы. - 1986. - № 6. - C. 67-68.
84. Реков Ю.В., Червонный И.Ф., Егоров С.Г., Воляр Р.Н. Особенности гидрохлорирования технического кремния. // Восточно-Европейский журнал передовых технологий. - 2011. - № 6/6 (54). - С. 56-59.
85. Червоній, І.Ф. Напівпровідниковий кремній: теорія і технологія виробництва [Текст] : монографія / І.Ф. Червоний, В.З. Куцова, В.І. Пожуев, І.Ф. Червоного. – Вид. 2-е, допр. і перер. – Запоріжжя: Видавництво ЗДІА, 2009. – 488 с. – Бібліогр. : 446-484. – 300 прим. – ISBN 978-966-8462-24-5.
86. BrenemannW.C. Direct synthesis of chlorsilanes and silane, in: K.M. Levis and D.G. Rethwisch. Catalyzed Direct Reaction of Silicon, 1993. Elsevier Science Publishers B.V. Amsterdam. London. p. 441-457.
трихлорсилана, составленная в «EXCEL». // Вестник МИТХТ. - 2010. - Т. 5. С. 34-40.
www.peaksunsilicon.com 2009.
89. Wacker Chemie baut fur eine Milliarde Dollar eine Siliziumfabrik in den USA. Handelsblatt. 16.11.2009.
90. Wacker sichert Polysilizium Ausbau ab, http://www.alelectronics.de, 28.08.2009.
91. Hemlock Semiconductor begins operation of 8500-mt polysilicon plant in Michigan. http://www.pv-tech.org/lib/printable/5326,published 27.05.2009.
92. Chemiefirma Dow Corning verkauft Standartprodukte nur noch online.
Handelsblatt. 16.06.2009.
93. Dow plant Milliardeninvestionen in Solartechnologie. Chemie Technik.
16.12.2008.
94. MEMC AG plant rund 80 neuneinstellungen, http://www.stol.it, 27.10.2009.
95. R.Cockerill. Silane production expansion planned in line with growing demand. http://www.gasworld.com/news.php?a=3313; ns=2, 24.05.2009.
96. Алферов Ж.И. Государственная Дума. Совещание на тему “Состояние и перспективы развития полупроводниковой электроники в России”. 2004 г.
97. Акулич А.В., Бородуля В.А., Виноградов Л.М., Рабинович О.С. Научные и технические аспекты получения поликристаллического кремния в реакторах кипящего слоя. Тезисы докладов I-го Международного практического семинара «Оборудование и технологии роста кристаллов – 2009». г. Брянск, Россия, - С. 1-3.
98. Иванов В.М., Трубицын Ю.В. Современные тенденции развития промышленности поликристаллического полупроводникового кремния.
// Складні системи та технології. - 2009. - № 1(23). - С. 30-35.
99. Темкин М.И. Теория стационарных реакций. В кН. Научные основы подбора и производства катализаторов. - Новосибирск: Изд-во СО АН СССР, 1964. - С. 46-67.
Феноменологическая и стационарная кинетика сложных химических реакций.
- Смоленск. Изд.-во «Ойкумена», 2002. - 408 с.
квазистационарности и квазиравновесия в химической кинетике (учебное пособие). - М.: Моск. гос. акад. тонкой хим. технологии им. М.В. Ломоносова, 2001. - 79 с.
102. Walter K.V., Makila P.M. Chemical reaction invariants and variants and their use in reactor (modeling, simulation and control). Ind. Eng. Chem. Process Des. and Develop. -1981.- V. 20. - № 1. - p. 1-11.
103. Ортега Д., Рейнбольдт В. Итерационные методы решения нелинейных систем уравнений со многими неизвестными /Пер. с англ./ Под ред.
И.В. Коновальцева. - М.: Мир, 1975. - 338 с.
104. Зейгарник А.В., Брук Л.Г., Темкин О.Н. и др. Исследование механизмов реакций с использованием компьютерных программ (обзор). // Журнал успехи химии. - 1996. - Т.65. - № 2. - С. 125-139.
105. Быков В.И., Цыбенова С.Б. Параметрический анализ простейшей модели теплового взрыва – модели Зельдовича-Семенова. // Физика горения и взрыва. - 2001. - Т. 37. - № 5. - С. 36-48.] 106. Быков В.И., Цыбенова С.Б. Параметрический анализ модели проточного реактора идеального смешения// Теоретические основы химической технологии. – 2003. – Т. 37, - № 1, - С. 64-75.
107. Быков В.И., Цыбенова С.Б. Параметрический анализ моделей реакторов смешения и вытеснения // Физика горения и взрыва. - 2001. - Т. 37. - № 6. С. 22-29.
108. Быков В. И., Волокитин Е. П., Тресков С. А. Математическая модель проточного реактора идеального перемешивания. Параметрический анализ.
// Сибирский журнал индустриальной математики. - 1998. - Т. 1. - № 1. С. 57–76.
109. Цыбенова С.Б. Параметрический анализ нелинейных базовых моделей Макрокинетики. // Journal of Siberian Federal University. Mathematics & Physics. - 2010. - V. 3. - р. 411–416.
110. Цыбенова С.Б. Параметрический анализ нелинейной математической университета. Серия «Математика и физика». - 2010. - Т. 3. - № 4. - С. 501Цыбенова С.Б. Параметрический анализ базовых моделей химической кинетики и макрокинетики. Автореф. … док. … дис. Уфа. 2010. - 39 с.
112. Даймач Е.Е., Кондратьев Е.Н. Модель циклически обостряемого реактора // Вiсник Одеськ. держ. ун-та. - 2001. - Т. 6. - Вип. 3. физ-мат. науки.
-- С. 154-160.
химического реактора полунепрерывного действия для исследования устойчивости // Науковi працi ДонНТУ. - 2011. - Вип. 20(182). - С. 66-73.
динамики реактора идеального смешения с экзотермическими параллельными реакциями // Химическая физика. - 2007. - Т. 26. - № 9. - С. 19-24.
двухстадийной последовательной реакцией // Химическая физика. - 2009. Т. 28. - № 7. - С. 87–93.
116. Вольтер Б.В., Сальников И.Е. Устойчивость режимов работы химических реакторов. - М.: Химия, 1981. - 200 с.
117. Франк-Каменецкий Д.А. Диффузия и теплопередача в химической кинетике. - М.: Наука, 1967. - 491 с.
118. Арис Р. Анализ процессов в химических реакторах. - Л.: Химия, 1967. – 328 с.
119. Перлмуттер Д. Устойчивость химических реакторов. - Л.: Химия, 1976.
– 256 с.
120. Математическое моделирование химических реакторов.- Новосибирск:
Наука, 1984. - 164 с.
121. Поршнев С.В. MATLAB 7. Основы работы и программирования.
Учебник. - М.: Изд-во "Бином. Лаборатория знаний", 2006. – 320 с.
122. Иглин С.П. Математические расчеты на базе Matlab. Изд-во "BHVСанкт-Петербург", 2005. - 640 с.
123. Алексеев Е.Р., Чеснокова О.В. Решение задач вычислительной математики в пакетах Mathcad 12, MATLAB 7, Maple 9. Издательство: НТ Пресс, 2006. - 496 с.
124. Исходные данные для проекта «Реконструкция существующего производства трихлорсилана в корпусе № 94 ООО «Усолье-Сибирский Силикон» с увеличением мощности до 25000 т в год по трихлорсилану очищенному полупроводникового качества». - М.: ФГУП ГНИИХТЭОС, 2007. - 128 с.
125. Белый А.П., Горбунов А.И., Голубцов С.А. и др. Кремнеорганические соединения // Труды совещания. - М.: НИИТЭХИМ. 1966. - 65 с.
максимальной производительности реактора кипящего слоя для синтеза трихлорсилана / Хлорная металлургия редких металлов, титана и кремния.
Научные труды Гиредмета. - 1986. - Т. 137. - № 232. - С. 13-15.
127. Лапидус И.И., Koгaн Б.А., Перепелкин В.В. и др. Металлургия поликристаллического кремния высокой чистоты. - М.: Металлургия, 1971. - 144 с.
И.П. Мухленова, Б.С. Сажина, В.Ф. Фролова. - Л.: Химия, 1986. - 352 с.
129. Иоффе И.И., Письмен Л.М. Инженерная химия гетерогенного катализа.
- Л.: Изд. Химия, 1972. - 464 с.
130. Дидушинский Я. Основы проектирования каталитических реакторов. М.: Химия, 1972. - 376 с.
131. Основные процессы и аппараты химической технологии: Пособие по проектированию. / Борисов Г.С., Брыков В.П., Дытнерский Ю.И. и др.
Под редакцией Ю.И Дытнерского, 2 –е изд., перераб. и дополн. - М.: Химия, 1991. - 213 с.
давлением. - М.: АН СССР, 1963. - 214 с.
133. Псевдоожижение: Пер. с анг. / Под ред. Дэвидсона И.Ф. и Харисона Д. М.: Химия, 1974. - 728 с.
134. Мухленов И.П., Анохин В.Н., Проскуряков В.А. и др. Катализ в кипящем слое. - Л.: Химия, 1978. - 232 с.
135. Забродский С.С. Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем (общие вопросы разработки и исходные закономерности). - М.:
Энергия, I97I. - 328 с.
136. Гельперин Н.И., Айнштейн В.Г., Кваша В.В. Основы техники псевдоожижения. - М.: Химия, 1967. - 664 с.
137. Справочник Химика. / Под ред. Б.П. Никольского. - Л.: Химия, 1971. Т. 1. - 1071 с.
138. Столяров Е.А., Орлова Н.Г. Расчет физико-химических свойств жидкостей. Справочник. - Л.: Химия, 1976. - 112 с.
139. Морачевский А.Г., Сладков И.Б. Физико-химические свойства молекулярных неорганических соединений. - Л.: Химия, 1987. - 188 с.
140. Павлов К.Ф., Романков П.Г., Носков А.А. Примеры и задачи по курсу процессов и аппаратов химической технологии. - Л.: Химия, 1976. -552 с.
141. Викторов М.М. Методы вычисления физико-химических величин и прикладные расчеты. - Л.: Изд. Химия, 1977. - 203 с.
142. Разумов И.М. Псевдоожижение в пневмотранспортном потоке сыпучих материалов. - М.: Химия, 1964. - 213 с.
143. Тодес О.М., Цитович О.Б. Аппараты с кипящим зернистым слоем:
Гидравлические и тепловые основы работы. - Л. Химия, I98I. - 296 с.
144. Куний Д., Левеншпиль О. Промышленное псевдоожижение. - М.:
Химия, 1976. - 448 с.
145. Бородуля В.А., Ганжа В.Л., Ковенский В.И. Гидродинамика и теплообмен в псевдоожиженном слое под давлением. - Мн.: Наука и техника, 1982. - 206 с.
Гидродинамические характеристики псевдоожиженного газом слоя и их влияние на его теплообменные свойства. - М.: Энергия, 1980. - 344 с.
псевдоожиженном слое катализатора. Дисс … канд. техн. наук. - Л., 1967. - 185 с.
148. Аэров М.Э., Тодес О.М. Гидравлические и тепловые основы работы аппаратов со стационарным и кипящем зернистым слоем. - Л.: Химия, 1968. - 512 с.
149. Бородуля В.А., Виноградов Л.М., Пальченок Г.И., Рабинович О.С., Акулич А.В., Корбан В.В. Моделирование и оптимизация основных технологических стадий производства поликристаллического кремния в кипящем слое. Mn.: VI Minsk International Heat and Mass Transfer Forum. MIF 2008. Minsk. May 19-23. 2008. - 48 p.
150. Noda S., Tanabe K., Yahiro T., Osawa T., Komiyama H. Reaction of Si with HCL to Form Chlorosilanes // Journal of The Electrochemical Society. -2004. V. 151 (6). - p. 399-404.
каталитического реактора. Дисс. … канд. техн. наук. – Л., 1984. - 168 с.
152. Баскаков А.П., Берг Б.В., Рыжков А.Ф., Филипповский Н.Ф. Процессы тепло- и массопереноса в кипящем слое. - М.: Металлургия, 1978. - 248 с.
153. Циборовский Я. Основы процессов химической технологии.- Л.: Химия, 1967. - 720 с.
154. Романков П.Г., Рашковская Н.Б., Фролов В.Ф. Массообменные процессы химической технологии (системы с твердой фазой). - Л.:
Химия,1975. - 336 с.
155. Варгафтик Н.Б. Справочник по теплофизическим свойствам газов и жидкостей. М.: Гос.изд-во физ.-мат.лит, 1972. - 563 с.
156. Еремин Е.Н. Основы химической кинетики. - М.: Высшая школа, 1976. - 541 с.
157. Бартов А.Т., Белов В.Н., Варламова А.Е. и др. Высокотемпературные процессы химической технологии и перспективы их развития. - Л.: Наука, 1980. - 236 с.
полупроводникового кремния: пути снижения затрат. – М.: Гиредмет.
перевод, 1984. - № 1623.
159. Забродский С.С. Высокотемпературные установки с псевдоожиженным слоем (общие вопросы разработки и исходные закономерности). - М.:
Энергия, I97I. - 328 с.
160. Лабораторный практикум по моделированию и оптимизации химикотехнологических процессов с помощью программного продукта Aspen PLUS:
учебное пособие / В.А. Холоднов, В.К. Викторов, И.В. Ананченко, В.И. Чепикова. - СПбГТИ. СПб, 2000. - 41 с.
161. Основы математического моделирования и оптимизации процессов и систем очистки и регенерации воздуха: учебное пособие / С.И. Дворецкий, С.В. Матвеев, С.Б. Путин, Е.Н. Туголуков. - Тамбов: Изд-во Тамб. гос. техн.
ун-та, 2008. - 324 с.
технологии. М.: Из-во «Химия», 1971. - 784 с.
163. Левеншпиль О. Инженерное оформление химических процессов. М.:
Из-во «Химия», 1969. - 648 с.
164. Дворецкий С.И. Техника и технология псевдоожижения: гидродинамика и теплообмен с погруженными телами. - Тамбов: Изд-во Тамб. гос. техн. унта, 2005. - 168 с.
165. Бородуля В.А., Гупало Ю.П. Математические модели химических реакторов с кипящим слоем. Мн. Изд-во «Наука и техника». 1976. 208 с.
166. Оленников А.А., Оленников Е.А., Захаров А.А. Программный комплекс для моделирования аппарата кипящего слоя и процессов, протекающих в нем // Вестник Тюменского государственного университета. С. 156-161.
моделирования химико-технологических систем // Теоретические основы химической технологии. - 2006. - Т. 40. - № 3. - С. 302–312.
168. Гартман Т.Н., Клушин Д.В.Основы компьютерного моделирования химико-технологических процессов. - М.: ИКЦ «Академкнига», 2006. - 416 с.
169. Гунич С.В., Янчуковская Е.В. Математическое моделирование и расчет на ЭВМ химико-технологических процессов. Примеры и задачи. Часть I:
Учебное пособие. - Иркутск: Изд-во ИрГТУ, 2010. - 216 с.
170. Рыжиков Ю.И. Современный Фортран. - М.: Изд-во Корона Принт, 2009. - 288 с.
171. Немнюгин С., Стесик О. Современный Фортран. - Изд-во БХВПетербург, 2005. - 496 с.
172. Немнюгин С., Стесик О. Фортран в задачах и примерах. - Изд-во БХВПетербург, 2008. - 320 с.
173. Рыжиков Ю.И. Программирование на Фортране Powerstation для инженеров. Практическое руководство. - М.: Изд-во Корона-Принт, 2009. - 198 с.
174. Бартеньев О.В. Visual Fortran: новые возможности. - М.: Изд-во Диалог-МИФИ, 1999. - 498 с.
175. Карапетьянц М.Х. Химическая термодинамика. - М.: «Химия», 1975. - 584 с.
176. http://www.aveva.com/products_services_aveva_plant_pdms.php.
177. http://3alivka.com/file/2073/AVEVA_PDMS12...270.01/rar.html.
178. Магалиф В.Я., Иткина Д.М., Корельштейн Л.Б. Монтажное проектирование химических, нефтехимических и нефтеперерабатывающих производств. - М.: ООО "НАВИГАТОР", 2010. - 344 с.
179. ISO 15926 – Lifecycle Data for Process Plant, 2008.
180. Кравцов А.В., Иванчина Э.Д. Интеллектуальные системы в химической технологии и инженерном образовании. - Новосибирск.: Наука, 1996. - 199 с.
«